年产1000吨三氟化氮项⽬（特⽓⾏业纯度99.996%)

三氟化氮（Nitrogen Trifluoride），化学式NF3，是⼀种强氧化剂。作为⼀种重要的⼯业特种⽓体，具有⼔泛的具有⼔泛的。
在微电⼦⼯业中，三氟化氮是⼀种优良的等离⼦蚀刻⽓体，在半导体芯⽚板平、平、平利显⽰器、光纤、光伏电池等制造领域，三氟化氮主要⽤作等离⼦蚀刻⽓体咔清洗剂。它还可以⽤于⾼能化学激光器，通过与氢反应在瞬间放出⼤量热来家应⽤。三氟化氮还可⽤作⾼能燃料，并且在⽕箭发射中作为氧化剂和推进剂。

Nitrogen trifluoride, fua fa'ama'i NF3, ose so'o fa'ama'i malosi. I le avea ai o se kesi faʻapitoa faʻapisinisi taua, o loʻo i ai le tele o faʻaoga.
I le alamanuia microelectronics, nitrogen trifluoride o se kasa etching plasma sili ona lelei; I totonu o le pusi semiconductor, fa'aaliga laulau mafolafola, fibre opitika, sela photovoltaic ma isi fanua gaosiga, nitrogen trifluoride e masani ona fa'aaogaina e avea ma kesi etching plasma ma tali fa'amama ga.
E mafai foʻi ona faʻaaogaina i lasers vailaʻau maualuga-malosi e ausia ai lona faʻaogaina e ala i le tali atu i le hydrogen e faʻauluina ai le tele o le vevela i se taimi vave. E fa'aaogaina fo'i le nitrogen trifluoride e fai ma suau'u malosi maualuga ma e fai ma fa'ama'i fa'ama'i ma fa'aoso i roketi.